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美国半导体研究公司（Semiconductor Research Corp.(SRC）和美国哥伦比亚大学（Columbia canadianpharmacy4rxonline University）宣布，双方共同评测分析了低介电率（low-k）层间绝缘膜对半导体芯片可靠性的影响。发布资料显示，此次使用光激励技术，调查了低介电率膜内部以及与其他材料界面的势垒高度、陷阱（Trap）的能级及密度等，并取得了新的研究成果。 generic cialis professional 20 mg
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据介绍，此次的研究将重点放在了low-k膜内的电荷移动、陷阱的光学性质及电气性质的调查上。使用光感应电流、激光二次谐波发生（laser second harmonic order cialis from canada generation，激光SHG）及容量-电压测量技术，测量了low-k膜内的陷阱密度并探索了其发生原理。
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来源：日经BP社
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