日本优贝克科技公司（ULVAC CORPORATION）在2005年7月14日～15日召开的“可印刷电子”研讨会上，介绍了直径数nm的ITO（铟锡氧化物）微粒开发情况。该公司正在致力于——先将在溶液中溶解有ITO微粒的墨水状液体涂布于底板上，再利用加热处理，形成熔接有ITO微粒的ITO膜——技术的实用化。现已利用溶解有直径约5nm的ITO微粒的ITO墨水，实现了在至今所有报告示例中最低的熔接温度（230℃），而且在可视区中光线透过率达到了99.4％，得到了比过去使用溅镀技术的ITO膜更好的特性。经常作为透明电极使用的ITO膜目前都是利用基于真空技术的溅镀设备形成的。假如使用ITO微粒，那么不仅能够在大气压下形成ITO膜，而且还能使用喷墨设备和网印设备等简便的印刷技术。
　　对于为何能够降低熔接温度，该公司解释说是因为优化了熔接条件。至于效果，该公司纳米微粒应用开发部部长小田正明表示，“作为液晶面板通用电极使用时，哪怕是先在彩色滤色器上涂布ITO喷墨，再利用加热处理，形成ITO膜，在230℃左右的温度条件下色彩滤色器也不会老化”。而过去的ITO墨水为了进行熔接，必须加热到300℃以上。如此一来，即便要在彩色滤色器上形成ITO膜，色彩滤色器也会在加热处理中出现老化现象。不过，优贝克公司认为目前仍很难应用于液晶面板。这是因为在230℃条件下使ITO墨水发生熔接的ITO膜电阻率约为0.01Ωcm，相当于利用溅镀设备得到的ITO膜的数十倍。假如能够在200℃以下的温度条件下使ITO墨水发生熔接，那么就能使用塑料底板。但从技术上来说，很难将熔接温度降至200℃以下。
　　对于其另一个特点即透过率的高低，没有公布具体的作用机理。小田部长表示“目前只能透露使用纳米级ITO微粒的效果”。与利用溅镀设备得到的ITO膜相比，在透过率以外的光学特性方面也有区别，比如折射率，使用ITO墨水的ITO膜就低一些。目前，该公司主要在探索可在230℃下熔接以及上述光学特性的应用领域。

　　　　　　　　　　　　　　　　来源：日经BP社