Mapper Lithography日前宣布其多光束无掩膜光刻机的研发取得了里程碑式的进展，这种新型光刻机将用于先进芯片的制造。
　　Mapper表示，公司已经验证了该设备可实现大面积平行电子束绘制，并适用于32纳米节点技术。
　　Mapper对于该设备的开发已有时日。该公司称，该款新型设备主要基于两项技术。第一，该设备使用光来控制每条电子束的开关；第二，该设备应用一列MEMS透镜来精确聚焦平行电子束。
　　Mapper是开发下一代无掩膜光刻工艺中比较有前途的公司之一。该公司的产品免去了高成本掩膜的使用，使制造成本大大降低，并缩短产品上市时间。
　　据悉，TSMC（台积电）是Mapper公司的投资者之一。

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　来源：半导体国际